扩散炉

磷扩散广泛应用于晶体硅电池的生产工艺中。掺入微量磷到硅片表面中可形成电池的N型结。这一工艺是通过两个工艺过程来实现的。 首先，要在硅片正面沉积磷蒸汽或磷涂层。然后，将硅片在800°C ~1000°C之间烧结来使磷扩散进硅片内部， 便形成了N型结。

这种工艺过程通常是在间歇操作式的管状炉或连续链式的扩散炉中完成。和间歇式炉相比，链式扩散炉的产能更高、均匀性好、碎片率低、所需的工艺时间短。详细的使用成本 (COO) 模型计算表明连续式扩散的硅片成本只有管状炉扩散的三分之一。

BTU Meridian™链式扩散系统将双面喷磷机、硅片干燥器和带有石英内衬的链式扩散炉集于一体。Meridian™ 可设计达到1500硅片/小时的产能。炉内温度均匀性出色（小于± 2°C），便于获得精确的和重复性很好的硅片方阻。方阻值可控在40到100欧姆以上。这个范围不仅满足了现阶段电池的设计要求，同时也覆盖下一代包括选择性电极发射的浅发射极电池的要求。石英板内衬为磷扩散密闭所需的合适气氛。 Meridian™喷磷机具有可靠性很高的无喷嘴的喷洒技术。