Tritan™金属烧结系统具有BTU独家的TriSpeed™技术，该技术可提供高达200度/秒的升温速率，同时干燥和冷却部分的时间和温度曲线不受影响。三段式网带系统带来了革命性的温度曲线的优化和控制。试验数据都表明Tritan™的烧结工艺可提高填充因子，从而提高效率。加上Tritan™的低使用成本，Tritan™可为客户提供最低的电池每瓦成本。

Tritan™烧结炉可实现更快的硅片处理速度，并结合了新颖的加热和供气技术。增强的热处理功能使用户具更有多种手段来调节炉腔温度曲线，以针对不同硅片和浆料来进行优化。优化的红外光波长可让硅片在非常陡的温度梯度下加热。干燥和排胶段的长度也可以独立地被优化，以完全去除浆料中的有机物。

>快速高温加热所需的网带速度不会增加炉子长度。BTU独有的分段网带驱动系统可让干燥和冷却部分以低速度运行，从而所有3个工艺性能可分别得以提高。同时也不影响Tritan™的占地面积和产能。还有，平缓的网带和炉腔内柔和的气流可保证了薄型硅片的高产能。

Tritan的炉腔可上下开合，便于维护和更新升级。Tritan 是这类开关式炉的问世的第一台。炉腔可完全开合，加上长寿命加热灯管， 这些都最大程度减少了停机时间。干燥部分为不锈钢炉腔，清洗方便。

Tritan™烧结炉可配制成单轨或双轨硅片通道。这样，在同一宽度的网带上可实现30到60兆瓦的产量，这既提高了生产量的可变性，又降低了设备成本。Tritan™烧结炉可处理125X125mm, 156X156mm和更大尺寸的硅片。另外，我们也可提供独立的干燥炉。

Tritan™可与所有主流印刷和测试设备接合使用。和其它BTU产品一样，Tritan™烧结炉是通过带有触摸屏功能的WINCON™控制。WINCON™是BTU自行研制的基于Windows操作界面的多语种人机控制软件。